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屆時將呈現(xiàn)先進的半導體設備腔體清潔、涂層和測試能力
賓夕法尼亞州夸克敦2017年3月8日電 /美通社/ -- QuantumClean和ChemTrace將在3月14日至16日于上海新國際博覽中心舉行的SEMICON China（2017國際半導體設備、材料、制造和服務展覽暨研討會）上設展（展位號為5776）。QuantumClean依托領先的技術、資源和專長，在10納米以下高純度半導體零件清潔市場的前沿開展經(jīng)營活動，致力于生產(chǎn)Atomically Clean Surfaces?制程腔體零件。ChemTrace則是行業(yè)領先的半導體實驗室，致力于為客戶提供有關其微污染問題的重要見解。
Quantum Global Technologies, LLC首席運營官兼首席技術官大衛(wèi)-扎克(David Zuck)表示：“半導體行業(yè)對更加清潔的制程腔體零件和更加嚴格的控制的需求繼續(xù)加緊。2000年，QuantumClean制定了其首個技術路線圖——預測這些相關趨勢并確定可以滿足該行業(yè)日益發(fā)展的需求的解決方案。在接下來的時間里，QuantumClean的研發(fā)和工程團隊為解決該行業(yè)最具挑戰(zhàn)的零件清潔與涂層相關問題，不斷帶來創(chuàng)新型解決方案，在競爭中占得先機。我們期待在SEMICON China 2017設展期間，與半導體原始設備制造商(OEM)和廠商分享我們的能力。”
20多年來，ChemTrace在晶圓與沉積、高純度化學品、清洗室材料、去離子(DI)水和空氣分子污染方面，為半導體客戶提供無與倫比的微污染分析服務。此外，ChemTrace還在制程工藝工具腔體清潔效率方面，為對清潔度具有嚴格要求的眾多領先半導體廠商、原始設備制造商和原始配件制造商(OPM)客戶提供獨立的分析驗證服務。
ChemTrace銷售總監(jiān)Surjany Russell對此解釋說：“由于關注為客戶帶來微污染意識和服務，我們成為了全球主要晶圓代工廠(FAB)和原始設備制造商的成功合作伙伴。我們使合作伙伴能在現(xiàn)有重要材料與流程方面具備基礎的清潔能力。我們由此成為客戶向下一階段清潔水平發(fā)展的平臺。這就是ChemTrace的價值所在?！?/span>
Russell女士在總結時表示：“我們的全球業(yè)務在持續(xù)拓展，例如近期在臺灣臺南建立一流的實驗室，這使半導體行業(yè)的地區(qū)客戶能直接利用我們的先進實驗室，進行快速周轉和專業(yè)分析。”
我們誠邀各界人士在SEMICON China 2017參觀QuantumClean®與ChemTrace®展位，從而了解有關我們的服務如何幫助應對關鍵制程腔體制造挑戰(zhàn)的詳情。
